Path: csiph.com!fu-berlin.de!uni-berlin.de!news.dfncis.de!not-for-mail
From: Heiko Lechner <no.spam.to.me@arcor.de>
Newsgroups: de.sci.electronics
Subject: =?UTF-8?Q?Re:_Solarzellen:_D=c3=bcnnschicht_vs._Dickschicht?=
Date: Wed, 23 Mar 2016 07:54:22 +0100
Lines: 11
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Xref: csiph.com de.sci.electronics:205261

Am 22.03.2016 um 22:42 schrieb Dieter Wiedmann:
> Am 22.03.2016 22:24, schrieb Rolf Bombach:
> 
>> Nachteil der Si-Dünnschichttechnik: Die Maschinen zur Herstellung
>> werden mit NF3 gereinigt, ein Treibhausgas, das ca 20'000 mal stärker
>> wirkt, als CO2.
> 
> Das Zeug wird auch bei CVD zur Herstellung von TFT-Schirmen verwendet.

Kann man das nicht wieder auffangen?